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                                                  欢迎来到 徐州云名数码电子集团责任有限公司
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                                                  太阳城集团_电子基本常识:半导体原料种类及制备先容
                                                  时间:2018-09-20 08:05  来源:   作者:太阳城集团   点击:863次

                                                      种类

                                                  常用的半导体原料分为元素半导体和化合物半导体。元素半导体是由单一元素制成的半导体原料。首要有硅、锗、硒等,以硅、锗应用最广。化合物半导体分为二元系、三元系、多元系和有机化合物半导体。二元系化合物半导体有Ⅲ-Ⅴ族(如砷化镓、磷化镓、磷化铟等)、Ⅱ-Ⅵ族(如硫化镉、硒化镉、碲化锌、硫化锌等)、Ⅳ-Ⅵ族(如硫化铅、硒化铅等)、Ⅳ-Ⅳ族(如碳化硅)化合物。三元系和多元系化合物半导体首要为三元和多元固溶体,如镓铝砷固溶体、镓锗砷磷固溶体等。有机化合物半导体有萘、蒽、聚丙烯腈等,还处于研究阶段。另外,尚有非晶态和液态半导体原料,这类半导体与晶态半导体的最大区别是不具有严酷周期性分列的晶体布局。

                                                      制备

                                                  差异的半导体器件对半导体原料有差异的形态要求,包罗单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体原料的差异形态要求对应差异的加工工艺。常用的半导体原料制备工艺有提纯、单晶的制备和薄膜外延发展。

                                                  全部的半导体原料都必要对质料举办提纯,要求的纯度在6个“9”以上,最高达11个“9”以上。提纯的要领分两大类,一类是不改变原料的化学构成举办提纯,称为物理提纯;另一类拭浇楠素先酿成化合物举办提纯,再将提纯后的化合物还原成元素,称为化学提纯。物理提纯的要领有真空蒸发、地区精制、拉晶提纯等,行使最多的是地区精制。化学提纯的首要要领有电解、络合、萃取、精馏等,行使最多的是精馏。因为每一种要领都有必然的范围性,因此常行使几种提纯要领相团结的工艺流程以得到及格的原料。

                                                  绝大大都半导体器件是在单晶片或以单晶片为衬底的外延片上作出的。成批量的半导体单晶都是用熔体发展法制成的。直拉法应用最广,80%的硅单晶、大部门锗单晶和锑化铟单晶是用此法出产的,个中硅单晶的最大直径已达300毫米。在熔体中通入磁场的直拉法称为磁控拉晶法,用此法已出产出高匀称性硅单晶。在坩埚熔体外貌插手液体包围剂称液封直拉法,用此法拉制砷化镓、磷化镓、磷化铟平解析压较大的单晶。悬浮区熔法的熔体不与容器打仗,用此法发展高纯硅单晶。程度区熔法用以出产锗单晶。程度定向结晶法首要用于制备砷化镓单晶,而垂直定向结晶法用于制备碲化镉、砷化镓。用各类要领出产的体单晶再颠末晶体定向、滚磨、作参考面、切片、磨片、倒角、抛光、腐化、洗濯、检测、封装等所有或部门工序以提供响应的晶片。

                                                  在单晶衬底上发展单晶薄膜称为外延。外延的要领有气相、液相、固相、分子束外延等。家产出产行使的首要是化学气相外延,其次是液相外延。金属有机化合物气相外延和分子束外延则用于制备量子阱及超晶格等微布局。非晶、微晶、多晶薄膜多在玻璃、陶瓷、金属等衬底上用差异范例的化学气相沉积、磁控溅射等要领制成。

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